TFX4000E/TFX4000E UT+

新一代的薄膜厚度测量设备,应用范围覆盖集成电路制造前后段,适用于代工、存储以及3D NAND等各个领域,为客户提供全产线的工艺支持。

TFX4000系列产品继承了公司二代产品TFX3000P的全部优越性能,可满足14nm及以下工艺要求。在功能上更加丰富、完善,应用上更加广泛。

搭载了SWE功能,可实现针对如Gate Oxide等超薄膜更精确快速的测量。


设备主要特点:

·? ?低持有成本(CoO)、稳定性更好,产能更高

·? ?功能更全面:增加了四个测量???,拥有更宽的光谱范围和更多的测量手段

·? ??性能更优越:更先进的光路系统设计和平台运动系统,提供更稳定的测量性能和更高的产能,全面满足最先进的工艺需求